国产光刻机，先别急着沸腾

国人这“沸点”，是越来越低了。

这不，继麒麟9000S之后，清华大学的SSMB方案，又被网友们拿出来，称这是国产EUV光刻机的突破，并表示相比于ASML的EUV方案，SSMB-EUV方案强很多……一时之间，全网沸腾！

不过考古一下知乎，就会发现，关于国产光刻机的传说，真真假假已经好几波了，网友调侃“匿名”影响研发计划，获了不少赞，也从侧面反映出网友们对“PPT造EUV”的共识。

那么清华大学的SSMB方案究竟对国产EUV有什么样的贡献呢？

SSMB其实是指“Steady-statemicro-bunchingacceleratorlightsource”的一部分，翻译过来是：稳态微聚束加速器光源。

用于光刻的EUV光源无论是LPP还是SSMB，波长目前只能是13.5nm，镜面对13.5nmEUV的反射率仅有70%，镜面越多、损耗越大，有效功率越小。LPP-EUV是热辐射，聚焦和过滤需要复杂的光学系统，镜面数量很多，而SSMB-EUV的最大优势是发散角小，对聚焦要求低，能散小（频谱窄），对过滤要求低。此外，SSMB光学部分制造难度低、成本低，因此SSMB-EUV不仅所需的镜面数量少，而且镜面尺寸也小，还没有LPP-EUV的等离子体杂质污染镜面。

所以，如果SSMB-EUV光源投入使用，不仅能解决光源问题，还能大大降低光学部分的难度。而SSMB研发成功，最终也就是在光源这一块，有了突破，这也只是EUV光刻机中的一小部分，至于其它的部分，还需要一一突破

不过，按照清华大学SSMB团队负责人唐传祥教授的说法，这个SSMB的未来潜在应用之一，就是可以成为EUV光刻机的光源。

何谓潜在应用？就是有可能的应用，而不是一定的应用，这中间还有很多需要验证、实验的，甚至最终说不定还用不了也有可能。

最后，想借用知乎一位网友的观点：

「目前最稳妥，最安全的路线还是复刻现有技术路线。因为已经被证明此路可行，这已经能避免很多坑，只有工程难题没有那么多不确定性。新技术路线当然可以期待，如果能成当然皆大欢喜，不过我建议大家不要抱有太高期望。因为这条路其实更难！如果真的实现，那么不仅证明中国有仿制能力，更证明中国创新能力超过美国！」

期待真正沸腾的那天。