拓荆科技申请半导体处理装置及方法专利，专利技术能实现载气的循环利用，从而节约成本

admin 2026-02-02 共260人围观，发现71个评论

金融界2024年3月8日消息，据国家知识产权局公告，拓荆科技股份有限公司申请一项名为“半导体处理装置及方法“，公开号CN117672902A，申请日期为2022年8月。

专利摘要显示，本申请涉及一种半导体处理装置及方法。在本申请的一个实施例中，半导体处理装置包括：汽化装置，其用以使反应物汽化；载气供应装置，其通过第一管线耦接到所述汽化装置，用以向所述汽化装置供应载气；以及气体分离装置，其通过第二管线耦接到所述汽化装置并通过第三管线耦接到所述载气供应装置，用以将进入其中的混合气体分离为第一气体和第二气体，并将所述第一气体输送到所述载气供应装置，其中第一气体包括所述载气。所述半导体处理装置可以循环利用载气，从而节约成本。